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良好的分散性和穩(wěn)定性，具有去除率高、表面粗糙度小以及對(duì)工件無損傷、易清洗等優(yōu)點(diǎn)。主要用于半導(dǎo)體材料及光學(xué)玻璃等的拋光。

應(yīng)用范圍：用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料以及藍(lán)寶石、儀表、光學(xué)玻璃、半導(dǎo)體減薄等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光，能夠有效提高表面拋光效果。